NEWS

半导体产业作为现代信息技术发展的核心驱动力，已成为全球科技竞争的战略制高点。当前，我国在半导体上游材料和设备领域仍面临严峻挑战。这一困境在集成电路制造过程中表现得尤为突出——掩模版作为光刻工艺的“精密蓝图”，其制造技术直接决定了芯片的性能和良率，是产业链自主可控的关键瓶颈之一。

此次获批的台州市掩模版制造装备重点实验室，正是中心在掩模版装备领域纵深布局的关键落子。实验室聚焦高制程掩模基板制造技术与装备、五轴白光干涉测量系统、激光微纳曝光技术与装备等核心方向，系统开展前沿技术攻关与工程化验证，全力破解掩模版制造领域的关键技术瓶颈，加速推动掩模版产业链的自主可控与整体升级。

夯实科创底座，筑牢实验室建设根基

依托台州光电产业创新中心成熟的科创体系，实验室具备坚实的研发与成果转化根基。硬件层面，实验室共享中心原值超4.3亿元高端光电精密检测与中试设备，全面覆盖掩模装备研发、测试等全流程试验条件。人才与科研层面，实验室集聚多领域高层次科研团队，依托中心独创的“风险前置、验证先行”超前验证体系，打通“基础研究—技术攻关—样机验证—产业落地”全链条，推动实验室项目千万元研发资金到位，累计斩获20余项专利，形成可落地可转化可量产技术成果体系，为实验室技术快速走向市场探索出可复制新路径。

此次市级重点实验室的认定，为中心不断丰富的科创平台矩阵再添重要一笔。从省级布局到市级深耕，中心始终以攻关光电装备核心技术为己任，以加速成果转化为路径。展望未来，中心将全力推动创新链与产业链深度融合，为台州千亿级光电产业集群建设贡献更大力量。